基於開發的氣溶膠噴射列印設備,我們實施的相關實驗如下
特徵尺寸
透過調節聚焦比原位實現調控特徵尺寸
透過改變基底表面能,控制沉積液滴的咖啡環效應及馬蘭戈尼效應,進一步調控特徵尺寸
透過改變基底表面能,控制沉積液滴的咖啡環效應及馬蘭戈尼效應,進一步調控特徵尺寸













重複定位能力
優異的重複列印能力可確保在多層列印時的準確度




適用材料體系
適用材料:能夠霧化的材料體系皆可使用,可使用分散液或溶液,直接列印墨水黏度範圍可至1000cP









適用基底
適用條件:墨水可以潤濕基底



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應用工具
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MW-HMP Pro 高精細材質3D列印機
AJP 氣溶膠噴射機型 -
MW-NTA Pro 超音波霧化器
AJP 氣溶膠噴射機型 -
MW-PAS 氣動霧化系統
AJP 氣溶膠噴射機型 -
MW-PMP 精細薄膜3D列印機
AJP 氣溶膠噴射機型